大气中，等离子焰流一离开喷嘴就从周围吸入大宗空气。在100mm喷距时，吸入空气量可占等离子体的90%以上。常压等离子喷涂时，金属粉末氧化严重。另外，有些有毒质料（如铍及氧化铍）无法在大气中喷涂。为解决上述问题，提出了低压等离子喷涂。真空等离子喷涂又称低压等离子喷涂，是在低于大气压的低真空的密闭空间里进行的等离子喷涂（受控情况的喷涂技术）。
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受控情况的喷涂技术将我们对等离子喷涂的认识向前推进了一步。在喷涂室内操作喷枪，使情况获得完全控制。这样生产出来的涂层的特性是不可能在标准大气情况下生产出来的�Ｇ榭隹梢栽诮跽婵眨ǖ痛�50 mbar）和增高压力（高达4 bar）规模内变革。选择在喷涂室内喷涂可避免涂层质料和/或基体的污染，或是由于需要喷涂质料与加入的某种物质爆发反应。
可控气氛等离子喷涂的原理即等离子喷枪置于密封舱室内，由机械手进行操作。将舱室抽至真空状态即为真空等离子喷涂（VPS），舱室为低压状态时，成为低压真空等离子喷涂（LPPS）。舱室的气氛可以为惰性气氛或其他�；ば云�。由于情况为低压或气氛可控，等离子焰流加长，粒子加热更充分，氧化减少，涂层的质量获得明显改善，并且可以用于制备沉积金刚石膜、超导体氧化物涂层。
这种工艺生产出的涂层有许多优势。涂层致密性好，粘结性强，不会被污染，金属涂层中没有氧化物。在用无反应大气装填的喷涂室内喷涂的陶瓷等非金属涂层纯度很高。并且，诸如钨等高熔点金属涂层应用也很乐成。由于喷枪与工件之间的距离不像大气喷涂条件下那么要害，所以部件控制变得简单。喷涂工艺时间可以大大缩短，这是因为等离子羽流剖面均匀，“焦斑直径”可以很大。别的，没有大气冷却涂层粒子意味着涂层凝固历程比较缓慢。大气等离子涂层险些没有夹层“薄片”，涂层的晶体结构接近铸件质料的晶体结构。
在低真空的情况里，由于非转移型等离子弧射流变粗拉长，一直接触到工件外貌，形成导电通道，因而可在其上叠加转移弧。利用转移弧对工件外貌进行溅蚀，去掉外貌氧化层和污染，并且工件可以加热到较高温度，使得涂层在平滑的外貌上就可结合，并在界面上爆发扩散，提高了结合强度，涂层厚度亦可不受限制。在密闭室进行喷涂，噪声和粉尘对情况的污染问题也相应获得了解决。
低真空情况下的喷涂与大气等离子喷涂相比具有以下显著特点：
１）等离子射流的速度和温度都比大气等离子喷涂明显提高，压力愈低，射流速度和温度就愈高。
２）粉末在等离子射流高温区域滞留的时间增加，受热更均匀，航行速度更高。
３）可大幅度提高基体外貌预热温度；还可以用反向转移弧对基体进行溅射清洗，清除氧化物和污垢，使涂层和基体的结合状况获得改善。
４）粉末和基体外貌完全制止了氧化，能制备种种活性金属质料涂层。
５）由于以上原因，使得涂层结合强度大幅度提高，气孔率大幅度降低，涂层剩余应力减小，涂层质量明显改善。
６）真空等离子喷涂设备庞大，价格腾贵，推广应用难度很大。
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